X射線熒光光譜儀的探測器應該如何選擇

　　X射線熒光光譜是一種常用的光譜技術規模，既可用于材料的組成成分分析，又可用于涂層和多層薄膜厚度的測量等新格局。對于不同的應用用途作用，X射線熒光光譜儀體系中探測器的選擇也不盡相同開展攻關合作。

　　對于定性分析往往需要用到硅漂移探測器。硅漂移探測器（SDDs）能夠提高低能量敏感度，使得X射線熒光光譜技術可以對一些低原子序數(shù)元素進行檢測分析情況正常，甚至是在空氣氣氛中也能進行檢測，例如用于測量化學鍍鎳涂層中磷元素（原子序數(shù)Z=15）的含量優化上下。但是改革創新，大多數(shù)的低原子序數(shù)元素的檢測分析依然還需要隔離空氣氣氛。

　　近年來比較流行的是一種密封的發揮重要作用、充氣的正比計數(shù)器自行開發，正比計數(shù)器探測器較大的半寬高（FWHM）會導致相鄰元素的檢測譜圖嚴重重疊，以至于利用峰值搜索算法和/或可見光譜觀察法都無法探測出其中某種或者多種成分的存在取得顯著成效。對于一些需要鑒別元素成分的工業(yè)制造品處理方法，其質(zhì)量檢驗結果由于發(fā)生嚴重重疊，難以分辨責任，造成難以檢測服務。

　　雖然利用硅探測器也會發(fā)生譜圖上的峰重疊現(xiàn)象，但在大多數(shù)的情況下持續向好，這些重疊峰能夠被輕易的分離和識別舉行，這些特征使得硅探測器體系極其適用于定性分析和來料檢驗等方面。

　　硅漂移探測器具有很高的數(shù)據(jù)吞吐量不容忽視，因此當測量需要多采樣習慣、高精度時可以考慮使用這種探測器；但這通常需要樣品具有較高的熒光強度值組建。熒光強度值取決于樣品——如樣品類型覆蓋，樣品測量區(qū)域等。

　　在分析測量一些薄膜或者小樣品時進展情況，樣品的特性可能會很微小重要的作用。當樣品或者樣品區(qū)很小（直徑只有幾十微米）時研究，探測器的立體角則會起到很大的作用搶抓機遇。而樣品或樣品區(qū)很小的情況往往都發(fā)生在測量電子元件和功能性涂層厚度等時候，這時正比計數(shù)器（Prop Counter）就成為了一種非常受歡迎的選擇全面協議，因為這種探測器具有的大俘獲角允許可以使用更小的準直儀重要作用。因此，當樣品譜圖相對簡單相結合，含有元素只有兩到三種，樣品分析區(qū)域直徑小到100-200微米時影響，正比計數(shù)器Prop Counter則是一個非常理想的選擇相關性。