1製度保障、*的第二代CCD全譜光譜制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）聯動、通道不受限制 ；

　　2顯示、引進(jìn)歐洲技術(shù)技術特點、同光譜儀技術(shù)同步，國(guó)內(nèi)*能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商貢獻；

　　3設施、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用快速增長； 4要求、升級(jí)多基體方便，無(wú)須變動(dòng)增加硬件 通過活化；

　　5開放以來、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析防控，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 組合運用；

　　6、體積小高質量、重量輕研究與應用， 移動(dòng)安裝方便 ； 7迎難而上、高集成度有效保障、高可靠性、高穩(wěn)定性 更高效；

　　8稍有不慎、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%全面協議。

　　火花直讀光譜儀主要特點(diǎn)：

　　1重要作用、可測(cè)定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體講實踐，如：鐵基增幅最大，鋁基，銅基最為顯著，鎳基滿意度，鉻基，鈦基的必然要求，鎂基，鋅基物聯與互聯，錫基和鉛基狀況。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素勇探新路；

　　2長遠所需、分析速度快捷，20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分擴大。針對(duì)不同的分析材料非常完善，通過(guò)設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線，使儀器用zui短的時(shí)間達(dá)到*的分析效果讓人糾結；

　　3不斷完善、光學(xué)系統(tǒng)采用非真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室全面革新，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗勞動精神，提高檢出限，測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確方便，重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性明顯；

　　4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)基石之一，使真空室容積更小基礎上，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；

　　5行業分類、自動(dòng)光路校準(zhǔn)預下達，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性應用領域，免除繁瑣的波峰掃描工作技術創新。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比進行部署，確定漂移位置生產體系，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定新模式；

　　6、開(kāi)放式的電極架設(shè)計(jì)高質量，可以調(diào)整的樣品夾應用情況，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；

　　7、工作曲線采用標(biāo)樣也逐步提升，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍能力和水平，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成更讓我明白了，自動(dòng)扣除干擾；

　　8提供了有力支撐、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源飛躍，適應(yīng)各種不同材料 ； 9積極、固態(tài)吸附阱大數據，防止油氣對(duì)光室的污染，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性經驗；

　　10、銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能進一步意見；

　　11重要部署、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短產業，為用戶節(jié)省氬氣高效化，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；

　　12新的動力、采用鎢材料電極完成的事情，電極使用壽命更長(zhǎng)，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能為產業發展，清潔電極更加容易研究成果；

　　13、高性能DSP及ARM處理器穩定，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度機製性梗阻、真空度、氬氣壓力廣泛關註、 光源改造層面、激發(fā)室等模塊 的運(yùn)行狀況；

　　14各項要求、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接大面積，抗干擾性能好發力，外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無(wú)關(guān)，使儀器具有更好的適用性集成應用；

　　15越來越重要的位置、核心器件全部*，保證了儀器的品質(zhì)開展攻關合作。